纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法

	纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法
	朱恒亮 1; 曾璇 1; 崔涛2 ; 严昌浩 1; 张林波2
	2016
发表期刊	中国科学信息科学
ISSN	1674-7267
卷号	46 期号:10 页码:1372
摘要	集成电路规模庞大、结构复杂,随着集成电路制造工艺进入纳米尺度,复杂制造工艺中的工艺波动严重影响电路性能,给集成电路设计带来了巨大的挑战.集成电路互连线建模与光刻仿真涉及大规模Maxwell方程的数值求解,计算复杂度高、规模庞大.本文主要综述了在973项目资助下,基于中国科学院科学与工程计算国家重点实验室陈志明教授提出的并行自适应有限元理论及大规模并行计算平台PHG发展的纳米集成电路互连线建模和光刻仿真的大规模并行计算方法.在集成电路互连线建模方面,一方面,综述了寄生电容参数提取的并行自适应有限元方法ParAFEMCap,该方法实现了可以在上百乃至上千CPU核上运行的并行寄生电容提取,在1536 CPU核计算平台上达到75.7%左右的并行效率;另一方面,综述了一种结合边界元法和随机法的混合算法BIE-WOS,用于导体或介质面电荷密度计算,该方法具有随机法天然并行性的优势,易于实现大规模并行计算,本文进一步在5120核计算平台上验证了算法近似线性的并行加速比.在光刻仿真方面,基于自适应有限元计算框架(PHG)提出了集成电路光刻的并行自适应仿真方法,采用各项异性的单轴完美匹配层方法处理散射边界条件.
语种	英语
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.amss.ac.cn/handle/2S8OKBNM/43289
专题	计算数学与科学工程计算研究所
作者单位	1.复旦大学 2.中国科学院数学与系统科学研究院
推荐引用方式 GB/T 7714	朱恒亮,曾璇,崔涛,等. 纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法[J]. 中国科学信息科学,2016,46(10):1372.
APA	朱恒亮,曾璇,崔涛,严昌浩,&张林波.(2016).纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法.中国科学信息科学,46(10),1372.
MLA	朱恒亮,et al."纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法".中国科学信息科学 46.10(2016):1372.